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光学薄膜分析与设计AppEssen

光学薄膜分析与设计AppEssential Macleod
时间:2020-05-29 16:12来源:讯技光电编辑: 营销部点击:打印
Essential Macleod是一套完整的光学薄膜分析与设计的App包,它能在任一32位、64位MicroSoft窗口环境操纵系统下运行(除了Windows RT), 并且具有真正的多文档操纵界面;它能满足光学镀膜设计中的各种要求;既可以从头开始设计,也可以优化已有的设计;可以模拟设计生产中的误差,也可以导出薄膜的光学常数,是当今市场上最完善的薄膜设计及分析App。
 
模块:Core模块+5个附加模块
 
Core模块
 
Macleod核心模块是App的最低配置,包含设计编辑器,数据、目标编辑器,输入/输出,质料管理,性能计算,优化和综合,和其它App或硬件的数据交换,导纳轨迹,电场,辅助设计等,是整个App包的基本构架。

 
Core模块功能
 
效能计算
 
Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外,也包括沉积密度、吸取,椭圆参数,超快参数 (群组延迟、群组延迟色散、三阶色散)和多光色散,也可以进行色彩计算。公差的计算是分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。

颜色计算
 
颜色计算包括色度坐标、显色指数、色纯度、主导波长、相对色温。图形包括色度坐标图、色调、用户自定义图。包括CIE 1931 和 1964 配色函数在内的许多标准光源选择是预先定义好的,而用户可以定制你所需要的参数的其它参数。可以根据导入的透射及反射数据计算作为波长函数的颜色参数,也可以作为目标进行优化。
 
设计和分析工具
 
包括导纳图,电场分布,等效折射率,吸取分布,应力,光的散射、特性包络、消偏振边带滤波器设计和诱导透过率。
 
提取工具 
 
n & k 提取工具提供了由量测测试薄膜的反射、透射频谱数据以决定薄膜或基底n 与k 的方法。
 
反演工程
 
主要接纳Simplex 局部优化方法,根据已镀膜的设计结构和光谱测试数据(至少一种),来确定其真实膜系结构及其与设计的差别。
 
公差
 
Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度,可以比较不同的设计以挑选出最优者。
 
细化与合成
 
Essential Macleod提供了6个优化和2个合成工具,膜层可以锁定或关联(膜层关联是更先进的分组形式可以把不连续的膜层关联在一起优化),堆积密度包含在细化工具下的简单下降法里面(可对折射率优化)。优化过程可以加入如选择的膜层的总厚度等不同的限制条件。Optimac和needle Synthesis方法可以优化多层膜,可加入多种质料合成优化。Context允许使用替代质料优化。
 
图表
 
Essential Macleod包括标准图片、动态图(参数的变化效应可马上看到)、三维图。
 
导入与导出
 
剪贴板支撑与其它应用步伐的导入与导出数据,还可以导出数据到光学系统App中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。
 
Runsheet模块
 
这个工具可设计镀膜制程,包含机器配置编辑器以及跑单生成器。
 
机器配置编辑器
 
机器配置中贮存了特定镀膜机的详细设置,监控系统,入射角,质料,监控芯片,加工因子(包含随光源损耗变化的动态加工因子)。
 
Runsheet
 
使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置,进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外,还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。
 
•对反射、背向反射和透射监控计算光学信号
•当膜层沉积时,动态加工因子(Dynamic Tooling Factors)可以不同
•使用偏移和放大控制可以使信号数据缩小或放大到用户自定义范围
•对每一膜层,监控波长、带宽、监控光谱、晶控或光控都可以用户自定义
•在镀膜的任何阶段,监控芯片可以更换
•多种配套的格式输出
•提供图片和表格的监测数据可以输出到用户自定义报告格式
 
Simulator模块
 
对于公差问题, Simulator 通过蒙特卡罗(Monte Carlo)法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划, Simulator 可模拟薄膜淀积控制,引入随机和系统效应,例如信号噪声,加工因子的变动,封装密度误差等等,以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。
 
Monitorlink模块
 
Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外App。一个独立的步伐与控制器直接连接,而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积步伐的功能。
VStack 模块
 
VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时,初始为p- 偏振态的光线最终会以p - 偏振态从系统出射。同理,原本是s - 偏振态光也会以p - 偏振态出射,大家称此为偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。
 
Function模块
 
函数扩展功能无macleod计算中的限制,Function有两个主要工具:第一是简单的宏语言可在App表格中运行,另一个是强大的Basic脚本语言。
 
宏语言可以保存和调用。Operation可以使阵列数据作为变量并可进行所有必要的插值。Operations可以创建黑体辐射光源,对于柯西质料模型可提取n和K数据,很容易的计算如平均或峰值特性等庞大计算量。其简单宏指令中的操纵 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。
 
 

 
脚本是比Operations功能强大但更复杂的的脚本编辑。脚本可以调用Macleod作为物的实体,并运行它的命令可以插入到工具栏中,存在两个强大的编辑器,一个是可以使用BASIC脚本编辑器,另一个允许是允许用户与步伐包内置的对话框交互的脚本编辑器。
 

脚本也兼容OLE 的外部步伐如微软 WordApp。App提供了许多预先编辑好的脚本,如创建新的光源,如对不同的模型创建纳米复合质料,如OLED特性计算,膜层表面3维数据收集,非均匀表面效应的计算。
 
 
DWDM Assistant模块
 
在多腔滤波器设计中,特别是针对密集波分复用,用DWDM 助手可以避免单调的重复过程。DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片,以满足用户的不同规格,设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间、扰动特性等等规范排序。
 
 
通过扰动优化算法,增加只是由1/4 波长厚度的膜层组成的结构,减少通带中的脉动,使DWDM助手中使用的对称周期技术功能增强。一般来说,对给定要求的滤波器,有许多的设计都满足要求,但DWDM 助手可以按评价标准对设计结果进行排列。
 

 
 
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